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尼康官宣旗下首款半導(dǎo)體后端工藝用光刻機(jī)

Nature Photonics | 基于深紫外microLED顯示的無(wú)掩膜光刻技術(shù)與應(yīng)用示范

國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破，已通過(guò)量產(chǎn)驗(yàn)證！

中科大孫海定iGaN實(shí)驗(yàn)室研究三維垂直集成microLED陣列實(shí)現(xiàn)無(wú)掩膜深紫外光刻新技術(shù)

浙江奧首材料科技申請(qǐng)一種用于半導(dǎo)體化合物光刻膠的剝離液專利，減少剝離液中的腐蝕

威邁芯材年產(chǎn)100噸半導(dǎo)體高端光刻材料項(xiàng)目封頂總投資3億元

工信部推廣國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)，最小套刻精度≤8nm

威邁芯材年產(chǎn)100噸半導(dǎo)體高端光刻材料項(xiàng)目主體結(jié)構(gòu)全面封頂

智芯微“光刻膠均勻覆蓋晶圓表面的仿真方法”專利公布

福建泓光半導(dǎo)體材料取得一種光刻膠自動(dòng)過(guò)濾裝置專利，提高工作效率

國(guó)內(nèi)首臺(tái)超大尺寸鈣鈦礦高速激光刻蝕成套設(shè)備發(fā)布

光谷實(shí)驗(yàn)室研發(fā)出高性能量子點(diǎn)光刻膠

湃邦半導(dǎo)體光刻膠項(xiàng)目在海寧投產(chǎn)！

極紫外光刻新技術(shù)問(wèn)世能大幅提高能源效率并降低半導(dǎo)體制造成本

安徽首片！晶合集成光刻掩模版成功亮相

冠石半導(dǎo)體入場(chǎng)首臺(tái)先進(jìn)電子束掩模版光刻機(jī)

復(fù)旦大學(xué)研發(fā)半導(dǎo)體性光刻膠，實(shí)現(xiàn)特大規(guī)模集成度有機(jī)芯片制造

三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機(jī)

光刻機(jī)制造商ASML擴(kuò)建計(jì)劃獲表決通過(guò)

容大感光擬募資2.45億元建設(shè)高端感光線路干膜光刻膠項(xiàng)目

微芯新材料年產(chǎn)千噸電子級(jí)光刻膠原材料項(xiàng)目動(dòng)工

俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)制造完成：可生產(chǎn)350納米工藝芯片

宜興中車時(shí)代中低壓功率器件項(xiàng)目首臺(tái)光刻機(jī)搬入

芯源微廣州子公司光刻膠泵及高純供液系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目開工

ASML High-NA EUV光刻機(jī)取得突破，成功印刷10nm線寬圖案

國(guó)內(nèi)首臺(tái)大芯片先進(jìn)封裝專用光刻機(jī)交付入廠

九峰山實(shí)驗(yàn)室+華中科大聯(lián)合攻關(guān)，一種新型光刻膠技術(shù)完成初步工藝驗(yàn)證

威邁芯材100噸半導(dǎo)體高端光刻材料項(xiàng)目奠基

中荷雙方重點(diǎn)就光刻機(jī)輸華和加強(qiáng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)合作等議題深入交換意見

ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

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