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尼康官宣旗下首款半導(dǎo)體后端工藝用光刻機

Nature Photonics | 基于深紫外microLED顯示的無掩膜光刻技術(shù)與應(yīng)用示范

國產(chǎn)半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破，已通過量產(chǎn)驗證！

中科大孫海定iGaN實驗室研究三維垂直集成microLED陣列實現(xiàn)無掩膜深紫外光刻新技術(shù)

浙江奧首材料科技申請一種用于半導(dǎo)體化合物光刻膠的剝離液專利，減少剝離液中的腐蝕

威邁芯材年產(chǎn)100噸半導(dǎo)體高端光刻材料項目封頂總投資3億元

工信部推廣國產(chǎn)DUV光刻機，最小套刻精度≤8nm

威邁芯材年產(chǎn)100噸半導(dǎo)體高端光刻材料項目主體結(jié)構(gòu)全面封頂

智芯微“光刻膠均勻覆蓋晶圓表面的仿真方法”專利公布

福建泓光半導(dǎo)體材料取得一種光刻膠自動過濾裝置專利，提高工作效率

國內(nèi)首臺超大尺寸鈣鈦礦高速激光刻蝕成套設(shè)備發(fā)布

光谷實驗室研發(fā)出高性能量子點光刻膠

湃邦半導(dǎo)體光刻膠項目在海寧投產(chǎn)！

極紫外光刻新技術(shù)問世能大幅提高能源效率并降低半導(dǎo)體制造成本

安徽首片！晶合集成光刻掩模版成功亮相

冠石半導(dǎo)體入場首臺先進電子束掩模版光刻機

復(fù)旦大學(xué)研發(fā)半導(dǎo)體性光刻膠，實現(xiàn)特大規(guī)模集成度有機芯片制造

三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機

光刻機制造商ASML擴建計劃獲表決通過

容大感光擬募資2.45億元建設(shè)高端感光線路干膜光刻膠項目

微芯新材料年產(chǎn)千噸電子級光刻膠原材料項目動工

俄羅斯首臺光刻機制造完成：可生產(chǎn)350納米工藝芯片

宜興中車時代中低壓功率器件項目首臺光刻機搬入

芯源微廣州子公司光刻膠泵及高純供液系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)化項目開工

ASML High-NA EUV光刻機取得突破，成功印刷10nm線寬圖案

國內(nèi)首臺大芯片先進封裝專用光刻機交付入廠

九峰山實驗室+華中科大聯(lián)合攻關(guān)，一種新型光刻膠技術(shù)完成初步工藝驗證

威邁芯材100噸半導(dǎo)體高端光刻材料項目奠基

中荷雙方重點就光刻機輸華和加強半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)合作等議題深入交換意見

ASML 首臺新款 EUV 光刻機 Twinscan NXE:3800E 完成安裝

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