2025年1月9日，中微半導體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”，上交所股票代碼：688012）和南昌中微半導體設(shè)備有限公司共同擁有的發(fā)明專利“一種化學氣相沉積裝置及其清潔方法”（專利號：ZL201510218357.1）榮獲第二十五屆中國專利獎銀獎。 

中國專利獎是我國專利領(lǐng)域的最高榮譽，由國家知識產(chǎn)權(quán)局和世界知識產(chǎn)權(quán)組織聯(lián)合主辦，旨在鼓勵和表彰專利權(quán)人和發(fā)明人對技術(shù)創(chuàng)新及經(jīng)濟社會發(fā)展所作出的突出貢獻。至此，中微公司已榮獲中國專利獎2項金獎、1項銀獎和3項優(yōu)秀獎，這標志著中微公司在技術(shù)創(chuàng)新和知識產(chǎn)權(quán)保護方面所取得的卓越成就。 

本次獲獎的發(fā)明專利是中微公司MOCVD設(shè)備產(chǎn)品的基礎(chǔ)核心專利。MOCVD設(shè)備是寬禁帶半導體各種微觀器件制造的最關(guān)鍵設(shè)備，采用單晶外延生長技術(shù)生產(chǎn)LED芯片、功率器件以及其它第三代半導體器件，具有廣闊的應用前景。中微公司的MOCVD設(shè)備在業(yè)界享有盛譽，其氮化鎵基LED生產(chǎn)用MOCVD設(shè)備的市場占有率在過去幾年內(nèi)躍居全球第一，市場占有率超過70%。 

本次獲獎專利從反應腔內(nèi)流體動力學和氣流分布的角度提供了一種構(gòu)思新穎、巧妙的設(shè)計，使反應氣體排氣與反應副產(chǎn)物沉積物的收集、存儲相互分離，避免了固體沉積物對排氣口的堵塞，巧妙解決了MOCVD設(shè)備領(lǐng)域一直困擾的排氣不均勻、工藝良率低、維護頻繁和生產(chǎn)效率低等業(yè)界難題。這一突破性的技術(shù)，為客戶提供了更可靠、更高效的生產(chǎn)解決方案，有力推動了MOCVD設(shè)備的技術(shù)進步，促進了LED照明與顯示產(chǎn)業(yè)的新發(fā)展。這一創(chuàng)新成果進一步鞏固了中微公司在MOCVD設(shè)備市場的領(lǐng)先地位，也為國家節(jié)能減排、降低能耗作出了巨大貢獻。 

“中微公司連續(xù)斬獲中國專利獎，彰顯了中微公司在研發(fā)創(chuàng)新和知識產(chǎn)權(quán)管理方面的領(lǐng)先地位。”中微公司董事長兼總經(jīng)理尹志堯博士表示，“創(chuàng)新是中微公司發(fā)展的核心驅(qū)動力。中微公司將始終秉承技術(shù)創(chuàng)新、產(chǎn)品差異化和知識產(chǎn)權(quán)保護的產(chǎn)品開發(fā)原則，強化研發(fā)投入，不斷突破技術(shù)瓶頸，為客戶提供更具創(chuàng)新性和卓越品質(zhì)的產(chǎn)品和服務，為全球半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展貢獻更大的力量。” 

（來源：中微公司）