據(jù)璞璘科技官微消息，8月1日，璞璘科技自主設(shè)計(jì)研發(fā)的首臺(tái)PL-SR系列噴墨步進(jìn)式納米壓印設(shè)備順利通過(guò)驗(yàn)收并交付至國(guó)內(nèi)特色工藝客戶。

據(jù)悉，PL-SR系列噴墨步進(jìn)式納米壓印設(shè)備攻克了步進(jìn)硬板的非真空完全貼合、噴膠與薄膠壓印、壓印膠殘余層控制等關(guān)鍵技術(shù)難題，可對(duì)應(yīng)線寬＜10nm 的納米壓印光刻工藝。

PL-SR系列通過(guò)創(chuàng)新材料配方與工藝調(diào)控，提高膠滴密度與鋪展度，成功實(shí)現(xiàn)了納米級(jí)的壓印膜厚，平均殘余層＜10nm，殘余層變化＜2nm，壓印結(jié)構(gòu)深寬比>7:1的技術(shù)指標(biāo)。發(fā)展了匹配噴膠步進(jìn)壓印工藝與后續(xù)半導(dǎo)體加工工藝的多款納米壓印膠體系，特別是開(kāi)發(fā)了可溶劑清洗的光固化納米壓印膠，解決了昂貴石英模板可能被殘留壓印膠污染的潛在風(fēng)險(xiǎn)，為高精度步進(jìn)納米壓印提供了可靠材料保障。

此外，PL-SR重復(fù)步進(jìn)壓印系統(tǒng)還可滿足模板拼接的需求，最小可實(shí)現(xiàn)20mmx20mm的壓印模板均勻的拼接，最終可實(shí)現(xiàn)300mm(12in)晶圓級(jí)超大面積的模板。該款設(shè)備目前已經(jīng)初步完成儲(chǔ)存芯片、硅基微顯、硅光及先進(jìn)封裝等芯片研發(fā)驗(yàn)證。