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芯上微裝第500臺步進光刻機成功交付

國內(nèi)首臺半導(dǎo)體級步進納米壓印光刻系統(tǒng)交付

佳能新光刻機工廠9月投產(chǎn)，主攻成熟制程及封裝應(yīng)用

物元半導(dǎo)體首臺光刻機搬入，將于2025年四季度量產(chǎn)！

佳能開設(shè)21年來首家光刻機設(shè)備工廠，9月開始運營

國內(nèi)首條百噸級半導(dǎo)體KrF光刻膠樹脂雙產(chǎn)線建成

重慶奧松半導(dǎo)體特色芯片產(chǎn)業(yè)基地項目8英寸生產(chǎn)線首臺光刻機設(shè)備搬入！

舜宇奧來12英寸AR眼鏡微納光學項目搬入首臺光刻機

某單位SIC光刻版采購項目公開招標公告

國產(chǎn)高端光刻膠材料研發(fā)商東凱芯半導(dǎo)體完成A輪融資

上海新陽：目前建成光刻膠產(chǎn)能100噸，KrF光刻膠多款產(chǎn)品批量銷售

英國南安普敦大學開設(shè)全球第二家電子束光刻工廠

中國科學院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所投影式光刻機采購項目（第二次）公開招標公告

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復(fù)旦大學先進光刻膠材料教育部工程研究中心正式成立

俄羅斯完成首臺350nm光刻機開發(fā)，將批量生產(chǎn)

浙江一半導(dǎo)體項目，首臺光刻機成功搬入

浙江一半導(dǎo)體項目首臺光刻機成功搬入！

英特爾首批兩臺High NA EUV光刻機投產(chǎn)，單季生產(chǎn)3萬片晶圓

杭華股份擬收購浙江迪克60%股權(quán) 強化顯示光刻膠領(lǐng)域布局

日本加強出口管制！42家中國實體列入“黑名單”，涉及處理器、光刻機等領(lǐng)域

九奕半導(dǎo)體設(shè)備取得光刻機送料機構(gòu)專利，使硅片涂布更均勻

山東發(fā)布新材料產(chǎn)業(yè)科技創(chuàng)新行動計劃，第三代半導(dǎo)體材料、光刻膠等被劃重點

中芯微取得半導(dǎo)體生產(chǎn)制造用光刻機專利，可實現(xiàn)移動目的

大族安萊微米級光刻機項目開工

深圳晶源申請光刻膠模型優(yōu)化方法專利，能夠解決模型中存在的過擬合現(xiàn)象和一致性不佳的技術(shù)問題

粵芯半導(dǎo)體申請光刻機對準方法專利，平衡晶圓中切割道與芯片的研磨速率

中芯國際申請光刻機焦距監(jiān)控相關(guān)專利，實現(xiàn)在線焦距監(jiān)控且對產(chǎn)品晶圓圖形影響小

尼康官宣旗下首款半導(dǎo)體后端工藝用光刻機

國產(chǎn)半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破，已通過量產(chǎn)驗證！

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